概要 　　　
クライストロンは、高エネルギー加速器中で帯電した粒子を加速させるためのマイクロ波源として使用されており、アルミナセラミックはマイクロ波を通過させ真空を保つために加速管とクライストロンとの間のRF窓として使用されている。 現在、加速器のエネルギーが非常に大きくなっており、高エネルギークライストロンが必要とされている。高エネルギー窓の開発のため、最も重要な問題の一つがアルミナRF窓に沿って発生する沿面放電である。沿面放電は、絶縁体表面から放出される二次電子の増加（マルチパクター）がエクセスヒーティングを誘導させ、局所的な表面融解に至るというメカニズムで発生する。それゆえ、RF窓においての絶縁破壊過程を解明するため、高温度条件下での二次電子放出(SEE)特性を研究する必要があり、その研究をKEKと共同で行っている。